疑問？光學(xué)玻璃基旋渦波片主要清洗的目標(biāo)是什么：

光學(xué)玻璃基渦旋波片在制造和封裝過程中可能殘留以下污染物，超聲波清洗可高效去除：

1、拋光殘留物（如氧化鈰、二氧化硅顆粒）。

2、有機(jī)污染物（指紋、油脂、灰塵）。

3、金屬離子或無機(jī)鹽（來自加工環(huán)境或化學(xué)處理）。

4、臨時(shí)保護(hù)膜或光刻膠殘留（如用于微結(jié)構(gòu)制作的抗蝕劑）。

威固特VGT-1409FH超聲波清洗機(jī)所具備的清洗優(yōu)勢(shì)等技術(shù)功能如下：

相比傳統(tǒng)清洗方法（如手動(dòng)擦拭、噴淋清洗），威固特VGT-1409FH超聲波清洗機(jī)在光學(xué)玻璃基渦旋波片生產(chǎn)中具有以下優(yōu)勢(shì)：

威固特VGT-1409FH超聲波清洗機(jī)推薦技術(shù)參數(shù)（為確保清洗效果并避免損傷）：

威固特VGT-1409FH超聲波清洗機(jī)分步清洗流程：

步驟1：預(yù)清洗（可選）

目的：去除大顆粒松散污染物，減少超聲波負(fù)載。

方法：

用氮?dú)鈽尨祾卟ㄆ砻妗?/span>

浸泡于去離子水中，手動(dòng)搖晃10秒。

步驟2：超聲波主清洗

參數(shù)：

清洗液：按污染類型選擇。

功率：8W/L（如10L槽體=80W）。

時(shí)間：2分鐘。

操作：

將波片裝入支架，完全浸沒于清洗液（液面高出波片≥2cm）。

啟動(dòng)超聲波，觀察清洗液流動(dòng)是否均勻（避免死角）。

步驟3：漂洗

目的：去除清洗液殘留。

方法：

一級(jí)漂洗：超純水（電阻率≥18.2 MΩ·cm）中浸泡1分鐘，輕微搖晃。

二級(jí)漂洗：流動(dòng)超純水沖洗30秒（流速1L/min）。

步驟4：干燥

氮?dú)獯蹈桑?/span>

使用0.1μm過濾的氮?dú)猓瑝毫Α?.2MPa。

從波片中心向外螺旋式吹掃，角度45°（避免液滴殘留）。